E+H公司推出的多參數(shù)界面測量儀FMP55是業(yè)界集導(dǎo)波雷達和電容測量原理于一體，專門用于界面高精度測量的物位儀表。E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55的優(yōu)點：可靠的測量——用于帶乳化層的界面測量、用于 動態(tài)液面和泡沫液面的液位測量、用于變化中的介質(zhì)測量；實用性強；內(nèi)置數(shù)據(jù)存儲器；工廠預(yù)標定；直觀的菜單引導(dǎo)式操作，多種語言可選；便于集成到控制或資產(chǎn)管理系統(tǒng)中；精確的測量和過程診斷，便于快速決；認證: ATEX, IEC Ex, FM, CSA E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55的應(yīng)用領(lǐng)域
FMP55 - 采用帶涂層的多參數(shù)探頭，是油氣、化工和電力行業(yè)界面測量的*儀表
采用冗余的測量系統(tǒng)，獲得安全可靠的界面和總物位的測量值.
測量范圍zui大10 m (33 ft)
過程連接：法蘭
測量溫度: -50～+200 °C (-58 ～ +392 °F)
壓力范圍: -1 ～ 40 bar (-14.5 ～ 580 psi)
具有下列系統(tǒng)集成通信接口:
- 4-20mA HART模擬接口
- PROFIBUS PA接口
用于物位監(jiān)測時，符合SIL2要求，由TüV獨立評估，符合IEC 61508標準 E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55革命性的測量方案一舉解決了現(xiàn)有測量手段應(yīng)對復(fù)雜界面檢測固有的限制，真正實現(xiàn)了一臺儀表“全工況”界面測量：精度高、穩(wěn)定性好、重復(fù)性優(yōu)異的目標。除了設(shè)計理念的革新，E+H多參數(shù)界面測量儀在研發(fā)之初即充分考慮到現(xiàn)場應(yīng)用、實際維護與實時測量的復(fù)雜性與多變性，在結(jié)構(gòu)設(shè)計、軟件運算和數(shù)據(jù)維護等方面進行了全面的升級和提高。 在結(jié)構(gòu)設(shè)計上，E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55采用了同軸探頭搭配雙腔殼體。同軸型結(jié)構(gòu)既保證構(gòu)成穩(wěn)定的電容測量，也實現(xiàn)了導(dǎo)波雷達測量低介電常數(shù)介質(zhì)液面的要求，確保液面和界面測量更穩(wěn)定、更精準。本安的電子腔室與隔爆的電源腔室相互隔離，確保在防爆場合亦可以打開電子腔室進行儀表操作?？尚D(zhuǎn)360度的表頭以及具備45度仰角的顯示窗口，極大的便利了現(xiàn)場接線、調(diào)試等操作。不僅如此，F(xiàn)MP55還采用了先進的技術(shù)，實現(xiàn)更換電子插件后不再需要重新調(diào)試和設(shè)置參數(shù)，一分鐘即可做到儀表重新恢復(fù)到正常工作狀態(tài)。解決了用戶不會調(diào)試的后顧之憂，大大方便了用戶。由于FMP55實現(xiàn)了高度的數(shù)字化和智能化，內(nèi)部預(yù)置了豐富的高級預(yù)診斷功能，為儀表安全可靠運行提供了保障。 
在液位和界面信號識別方面上，E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55運用了靜態(tài)和動態(tài)算法相結(jié)合的算法，能動態(tài)跟蹤并記錄界面回波的歷史運動軌跡，精確定位出界面的位置。更先進的設(shè)計是：當被測界面由于各種原因變得不清晰時，如出現(xiàn)乳化層時，為了應(yīng)對導(dǎo)波雷達在這種情況下會發(fā)生失波的可能，儀表內(nèi)部的智能界面信號識別系統(tǒng)會不斷評估當前界面回波的質(zhì)量，利用電容測量值進行自動補償，確保持續(xù)穩(wěn)定測量，從而實現(xiàn)了“全工況”的界面測量。 總之，E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55克服了電容和導(dǎo)波雷達單獨測量界面的局限性，充分發(fā)揮了二種測量原理的優(yōu)勢，結(jié)合先進算法實現(xiàn)了復(fù)雜工況下的界面測量，開創(chuàng)了界面測量的先河，為自動化領(lǐng)域的界面測量增添了一種全新的、更為可靠、穩(wěn)定的解決方案。 |
